Похоже, что возможности Китая в производстве микросхем быстро растут. Местная компания создала первую систему электронно-лучевой литографии для коммерческого использования.
Обычно в сфере литографического оборудования Китай существенно отстает от западных конкурентов, поскольку не имеет доступа к передовых установок компании ASML. Это главный барьер для создания высокопроизводительных полупроводников. Несмотря на это, китайские компании пытаются разрабатывать собственные системы EUV-литографии, хотя на их появление уйдет немало времени.
Как сообщает SCMP, исследователи из квантовой технологической лаборатории университета Чжэцзян в Ханчжоу разработали первую установку электронно-лучевой литографии (EBL). Эта машина получила название Xizhi — в честь знаменитого древнекитайского каллиграфа Ван Сичжи. Устройство использует сфокусированный электронный луч, чтобы «писать» схемы микросхем на кремниевых пластинах.
В 2022 году Бюро промышленности и безопасности США ввело экспортные ограничения на оборудование для производства полупроводников, в том числе и на системы электронно-лучевой литографии. Вашингтон также давил на своего союзника — Нидерланды, чтобы ограничить компанию ASML в продаже наиболее передовых технологий китайским заказчикам в соответствии с ограничениями, принятыми правительством Нидерландов. После ограничений со стороны США, Китай активизировал усилия по локализации производства передовых микросхем. И последние достижения усиливают научно-исследовательский потенциал Китая.
Хотя новая китайская разработка далека от уровня ASML High-NA EUV, однако она имеет схожие черты. Xizhi может формировать линии схем шириной до 8 нм с точностью позиционирования 0,6 нм, что соответствует международным стандартам. Но ключевой недостаток заключается в особенностях работы и производительности. Машины электронно-лучевой литографии обеспечивают высокоточное нанесение схем и большую гибкость в проектировании. Обработка происходит точка за точкой, поэтому на формирование одной пластины могут уйти часы. Все это делает устройство пригодным только для исследований, тестирования и создания прототипов, но не для массового производства.
На практике Китай до сих пор полагается на DUV-системы для выпуска большинства коммерческих микросхем. Новый инструмент может помочь сократить отставание в сфере научных разработок от западных компаний, однако для серийного производства он малопригоден. США по-прежнему остаются впереди в производственных технологиях, но разрыв постепенно сокращается. И то, как именно технология EBL повлияет на амбиции Китая в области производства чипов, станет очевидным в ближайшие годы.
Источник: wccftech